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    國內光刻機技術取得重大突破

    激光刻蝕技術應用于各行各業,光刻機在各行業表現也日漸重要,對于普通人來說,光刻機或許是一個陌生的名詞,但它卻是制造大規模集成電路的核心裝備,每顆芯片誕生之初,都要經過光刻技術的鍛造。簡單地說,光刻機就是把工程師的設計‘印入’基底材料,其核心技術長期被國外激光公司等把持。國內從事密碼芯片研發的設計公司,一般研發的芯片投入生產時,130納米的芯片開模就是120萬元人民幣,而28納米的芯片開模費用高達上千萬元人民幣。而這一局面由于國內光刻機的技術突破將被改變.
    據介紹,為了將設計圖形制作到硅片上,并在2至3平方厘米的方寸之地集成數十億晶體管,光刻機需達到幾十納米甚至更高的圖像分辨率。而光刻機兩大核心部件之一的工件臺,在高速運動下需達到2納米(相當于頭發絲直徑的三萬分之一)的運動精度。因此光刻機雙工件臺又被稱為“超精密技術皇冠上的明珠”。
    專家組認為,歷經5年攻關,研究團隊研制出2套光刻機雙工件臺掩模臺系統α樣機,關鍵技術指標已達到國際同類光刻機雙工件臺水平,并獲得專利授權122項,為后續產品研發和產業化打下了堅實基礎。

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